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碳化硅磨料

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碳化硅磨料

  • 所属分类:绿碳化硅

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  • 发布日期:2018/03/27
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详细介绍

碳化硅磨料


    碳化硅磨料的主要成分是碳化硅(Sic)。碳化硅含量愈高,其硬度与磨削性能也愈高。碳化硅 砂颗粒愈细,Sic含量就愈低,Sic有很强的硬度(莫氏硬度为9.2),且具有相当尖锐的切削刃和自 锐性;在高温下(1000℃以上)仍能保持其固有的硬度和强度;与许多非金属(玻璃、陶瓷等)和某些 非铁金属(锌、铜及其合金)材料不易产生化学反应。碳化硅制品的导热率很高,热膨胀又小,抗热 震性很高,是优质的耐火材料。常温下工业碳化硅是一种半导体,属杂质导电性。碳化硅亲水性决 定磨料与结合剂结合牢固程度。当碳化硅被加热到一定温度时,能大量辐射出远红外范围的波, 这种射线很容易被水份、油漆等所吸收产生大量的热,所以具有远红外辐射性。

碳化硅磨料的用途 鉴于碳化硅的以上性质,碳化硅的用途就十分广泛,主要用在:

    1、磨料--主要是因为碳化硅具有很高的硬度,化学稳定性和一定的韧性,所以碳化硅能用于制 造固结磨具、涂附磨具和自由研磨,从而来加工玻璃、陶瓷、石材、铸铁及某些非铁金属、硬质合 金、钛合金、高速钢刀具和砂轮等。 

    2、耐火材料和耐腐蚀材料---主要是因为碳化硅具有高熔点(分解温度)、化学惰性和抗热振 性,所以碳化硅能用于磨具、陶瓷制品烧成窑炉中用的棚板和匣钵、炼锌工业竖缸蒸馏炉用的碳 化硅砖、铝电解槽衬、坩锅、小件炉材等多种碳化硅陶瓷制品。

    3、化工用途--因为碳化硅可在溶融钢水中分解并和钢水中的游离氧、金属氧化物反应生成一氧 化碳和含硅炉渣。所以它可作为冶炼钢铁的净化剂,即用作炼钢的脱氧剂和铸铁组织改良剂。这一 般使用低纯度的碳化硅,以降低成本。同时还可以作为制造四氯化硅的原料。

    4、电工用途--用作加热元件、非线性电阻元件和高温半导体材料。加热元件如硅碳棒(适用于 1100~1500℃工作的各种电炉),非线性电阻元件,各式的避雷阀片。 

    5、其它配制成远红外辐射涂料或制成碳化硅硅板用远红外辐射干燥器中。

     国标碳化硅磨料和日标碳化硅磨料粒度的区别

     碳化硅粒度是磨料微粉最重要的技术指标之一。然而由于它的抽象性和实际测试存在的困难,许多用户甚至部分制造商对“粒度”的理解都比较模糊,世缘磨料公司为此对“粒度”的基本概念作一通俗介绍。希望对大家有所帮助。 

国家标准:俗称W标准,因在粒度号前冠以字母W而得名,W是汉语“微粉”中“微”字的拼音(WEI)的字头。W标准是建立在用显微镜刻度尺测量颗粒大小的方法上的。这种方法规定用颗粒的最大宽度代表颗粒的大小。该标准以大致为公比对颗粒大小(又称“粒径”)分档,例如63.40.28.20.14.10.7.5.3.5.2.5.1.5.1.0.5等等(单位为“μm”),把一个粉体样品中的颗粒按上述分档法为基本粒、混合粒、细粒、粗粒和最大粒。以粒度W14{HotTag}为例。 

基本粒:10-14μm 

混合粒: 7-14μm 

细 粒: <7μm 

粗 粒: 14-28μm 

最粗粒: 28-40μm 

      基本粒是碳化硅磨料中最有用的部分,比例越高越好,国标要求在50%以上。混合粒则占磨料的主要部分,比例也是越高越好,国标要求在80%以上。 

       日本标准推荐的仪器有两种原理:一是电气抵抗法(即电阻法或称库尔特法),二是沉降管法。两种方法由于原理不同,标准值也不同,例如,JIS#1500,电阻法D50值为8.0±0.6μm,而沉降管法的D50为10.51μm。沉降管法速度慢,人工参与多,实际上很少被采用。现在人们通常说的JIS标准指的都是用电阻法的。日本标准采用碳化硅的含量,“最大粒、D3、D50和D94”等4个参数表述一个牌号微粉的粒度,最大粒的概念是很清楚的,D3、D50和 D94表示从最大粒径开始算到这些粒径值的颗粒(以重量计)含量分别为3%、50%和94%。以JIS#1500为例:

最大粒 <23μm 

D3 <20μm 

D50 =8.0±0.6μm 

D94 >4.5μm 

JIS碳化硅磨料微粉粒度标准D3=10.99μm D50=8.00μm D94=6.1μm 


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